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同种半导体材料在相同温度下电子的迁移率比空穴的迁移率小。
发布时间:
2024-06-21 20:57:47
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1.
同种半导体材料在相同温度下电子的迁移率比空穴的迁移率小。
2.
本征半导体材料的霍尔系数RH为0(假定电子和空穴的迁移率相同)。( )选项: A:对 B:错
3.
金属材料自由电子浓度很高,输出电压较小,不易做霍尔元件。半导体材料较适合,一般情况下,由于电子迁移率大于空穴迁移率,因此霍尔元件多用N型半导体材料。? 正确错误
4.
金属材料自由电子浓度很高,输出电压较小,不易做霍尔元件。半导体材料较适合,一般情况下,由于电子迁移率大于空穴迁移率,因此霍尔元件多用N型半导体材料。选项: A:正确; B:错误
5.
重掺杂n型硅中电子的迁移率较相同掺杂浓度下空穴的迁移率大。
6.
判断:金属材料自由电子浓度很高,输出电压较小,不易做霍尔元件。半导体材料较适合,一般情况下,由于电子迁移率大于空穴迁移率,因此霍尔元件多用N型半导体材料。 选项: A:正确 B:错误
7.
一般电子的迁移率大于空穴的迁移率,因此制作霍尔元件时多采用N型半导体材料。 选项: A:正确 B:错误
8.
对于Si材料来说,因为电子迁移率大于空穴迁移率,所以电子扩散系数大于空穴扩散系数
9.
制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些( )。选项: A:半导体材料的霍尔常数比金属的大; B:半导体中电子迁移率比空穴高; C:半导体材料的电子迁移率比较大; D:N型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件
10.
制造霍尔元件的半导体材料中,目前使用较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是( )选项: A:半导体材料的霍尔常数比金属的大 B:半导体中电子迁移率比空穴高 C:半导体材料的电子迁移率比较大 D:N型半导体材料比较适宜制造灵敏度比较高的霍尔元件。
11.
制造霍尔元件的半导体材料中,目前应用较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些( )。 选项: A、半导体材料的霍尔常数比金属大 B、半导体中电子的迁移率比空穴高 C、半导体材料的电子迁移率比较大 D、N型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件
12.
一般说来半导体中电子的迁移率小于空穴的迁移率。() 选项: A:正确 B:错误
13.
制造霍尔元件的半导体材料中,使用较多的是锗、锑化铟、砷化铟,原因是 选项: A:半导体的霍尔常数比金属的大 B:半导体中电子迁移率比较大 C:半导体中电子的迁移率比空穴高 D:N型半导体材料较适宜做灵敏度高的霍尔元件
14.
关于“载流子的迁移率”,以下说法正确的是?选项: A:迁移率是单位电场强度下载流子的平均漂移速度的绝对值; B:迁移率反映载流子在电场中漂移运动的难易程度; C:电子的迁移率为正; D:电子的迁移率大于空穴的迁移率; E:电子的迁移率为负,空穴的迁移率为正; F:电子的迁移率小于空穴的迁移率; G:迁移率反映载流子在浓度梯度作用下运动的难易程度
15.
制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些( )。 选项: A、半导体材料的电阻率大 B、半导体中电子迁移率比空穴高 C、半导体材料的电子迁移率比较大 D、N型半导体材料教适宜制造灵敏度高的霍尔元件
16.
对给定的杂质浓度,电子与空穴的少子迁移率均大于相同杂质浓度下的多子迁移率。 A: 正确 B: 错误
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