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一般电子的迁移率大于空穴的迁移率,因此制作霍尔元件时多采用N型半导体材料。
选项:
A:正确
B:错误
发布时间:
2024-06-15 21:08:22
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1.
金属材料自由电子浓度很高,输出电压较小,不易做霍尔元件。半导体材料较适合,一般情况下,由于电子迁移率大于空穴迁移率,因此霍尔元件多用N型半导体材料。选项: A:正确; B:错误
2.
判断:金属材料自由电子浓度很高,输出电压较小,不易做霍尔元件。半导体材料较适合,一般情况下,由于电子迁移率大于空穴迁移率,因此霍尔元件多用N型半导体材料。 选项: A:正确 B:错误
3.
制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些( )。 选项: A、半导体材料的霍尔常数比金属的大。 B、 半导体中电子迁移率比空穴多。 C、 半导体材料的电子迁移率比较大。 D、 N型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件。
4.
制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些( )。选项: A:半导体材料的霍尔常数比金属的大 B:半导体中电子迁移率比空穴高 C:半导体材料的电子迁移率比较大 D:N型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件
5.
制造霍尔元件的半导体材料中,目前应用较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些( ) 选项:A、半导体材料的霍尔常熟比金属大B、半导体中电子的迁移率比空穴高C、半导体材料的电子迁移率比较大D、N型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件
6.
制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些( )。选项: A:半导体材料的霍尔常数比金属的大; B:半导体中电子迁移率比空穴高; C:半导体材料的电子迁移率比较大; D:N型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件
7.
制造霍尔元件的半导体材料中,使用较多的是锗、锑化铟、砷化铟,原因是 选项: A:半导体的霍尔常数比金属的大 B:半导体中电子迁移率比较大 C:半导体中电子的迁移率比空穴高 D:N型半导体材料较适宜做灵敏度高的霍尔元件
8.
制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些( )。 选项: A:半导体中电子迁移率比空穴高 B:半导体材料的霍尔常数比金属的大 C:半导体材料的电子迁移率比较大 D:N型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件
9.
制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些( )。 选项:A. 半导体材料的霍尔常数比金属的大B. 半导体中电子迁移率比空穴高C. 半导体材料的电子迁移率比较大D. N 型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件
10.
制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些( )。选项: A:半导体材料的电阻率大; B:半导体中电子迁移率比空穴高; C:半导体材料的电子迁移率比较大; D:N型半导体材料教适宜制造灵敏度高的霍尔元件
11.
【多选题】下列关于霍尔元件的叙述,正确的有()。 选项: A: 制作霍尔元件时多采用N型半导体材料 B: 减小霍尔元件的厚度,可以提高其灵敏度 C: 如果霍尔片两端的电压为E,那么适当地选择材料的迁移率及霍 尔片的宽长比可改变霍尔电势值 D: 金属可用于制作霍尔元件
12.
本征半导体材料的霍尔系数RH为0(假定电子和空穴的迁移率相同)。( )
13.
本征半导体材料的霍尔系数RH为0(假定电子和空穴的迁移率相同)。( )选项: A:对 B:错
14.
下列关于霍尔元件的叙述,正确的有( ) 选项:A、制作霍尔元件时多采用P型半导体 B、减小霍尔元件的厚度,可以提高其灵敏度 C、如果霍尔片两端的电压为U,那么适当地选择材料的迁移率及霍尔片的宽长比可改变霍尔电势值 D、金属可用于制作霍尔元件
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